Monokristalliner Siliziumwafer für elektronische Anwendungen
Zusätzlich zu ihren elektronischen Eigenschaften weisen monokristalline Siliziumwafer auch einzigartige optische Eigenschaften auf. Sie sind beispielsweise im Infrarotbereich transparent und damit ideal für den Einsatz in Infrarotsensoren und -detektoren.
Beschreibung
Produktion
Monokristalline Siliziumwafer werden aufgrund ihrer einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften in elektronischen Anwendungen weit verbreitet verwendet. Monokristalline Siliziumwafer werden aus einem einzigen Siliziumkristall hergestellt, der in dünne Scheiben geschnitten und dann verarbeitet wird, um elektronische Geräte wie Transistoren, Dioden und integrierte Schaltkreise herzustellen.
Eine der wichtigsten Eigenschaften monokristalliner Siliziumwafer ist ihre hohe Reinheit. Monokristalline Siliziumwafer werden aus einem einzigen Siliziumkristall hergestellt, was bedeutet, dass sie eine gleichmäßige und homogene Struktur haben. Diese hohe Reinheit und Einheitlichkeit machen sie ideal für elektronische Anwendungen, da sie geringe Mengen an Verunreinigungen und Defekten aufweisen, die ihre elektronische Leistung beeinträchtigen können.
Spezifikation
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Produktname |
2-12 Zoll-Ausrichtung 100/111/110 P/N-Siliziumwafer |
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Durchmesser |
2/3/4/5/6/8/12 Zoll |
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Dicke |
Kundenspezifikation |
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Oberflächenfinish |
doppelseitige Politur (DSP)/SSP |
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Dotierstoff |
P- oder N-Typ: |
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Widerstand |
0.001~100 Ω×cm/1000-10000Ω×cm/>10000Ω×cm |
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Kristallorientierung |
<100>oder<111>oder<110> |
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Einkristalline Siliziumwafer sind ein wichtiges Material für die Elektronik. Ihre hohe Reinheit, ihre hervorragenden elektronischen Eigenschaften und einzigartigen optischen Eigenschaften machen sie ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, von Hochleistungstransistoren und -verstärkern bis hin zu Infrarotsensoren und -detektoren.
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