Wolframsilizid-Pulver WSi2-Pulver

Wolframsilizid (WSi2) ist eine anorganische Verbindung, die ein Silizid von Wolfram ist. Es ist ein leitfähiges Keramikmaterial.

Wird in der Mikroelektronik als Kontaktmaterial mit Widerstand 60-80 μΩ cm verwendet; Es bildet sich bei 1000 Grad. Es wird oft als Shunt für Polysiliziumdrähte verwendet, um deren Leitfähigkeit und Signalgeschwindigkeit zu erhöhen. Die Wolframsilizidschicht kann durch chemische Gasphasenabscheidung hergestellt werden, beispielsweise unter Verwendung von Monosilan oder Dichlorsilan mit Wolframhexafluorid als Quellgas. Der abgeschiedene Film ist nicht stöchiometrisch und muss getempert werden, um ihn in eine leitfähigere stöchiometrische Form umzuwandeln. Wolframsilizid ist eine frühe Alternative zum Wolframfilm. Wolframsilizid wird auch als Sperrschicht zwischen Silizium und anderen Metallen wie Wolfram verwendet.

Wolframsilicid findet auch Anwendung in mikroelektromechanischen Systemen und wird hauptsächlich als Dünnschicht zur Herstellung von Schaltkreisen im Mikromaßstab verwendet. Zu diesem Zweck können Wolframsilizidfilme unter Verwendung von beispielsweise Stickstofftrifluoridgas plasmageätzt werden.

WSi2 zeigt gute Leistungen in Antioxidationsbeschichtungen. Insbesondere das hohe Emissionsvermögen von Wolframdisilizid, ähnlich wie Molybdändisilizid (MoSi2), macht dieses Material attraktiv für Hochtemperatur-Strahlungskühlung und beeinträchtigt den Wärmeschutz.